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首页产品展示 半导体设备/CMP  
 
名称:光学薄膜的真空镀膜设备
编号:Pro2008827113952
英文名称:BMC1100DS
型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)
制造时间:2003年
状态:运行极好
技术规格:
真空腔体尺寸:
φ1100mmxH 1600mm
φ950 (3~30rpm)
耐加热系统:
φ20mm 4kw
蒸发源:
2 EB Guns (JEOL) 
JEBG-102UHO(φ35ccx20)
JST-16F (16kw) 
IAD 系统:
光学厚度监控器:
OPM-V1 (monitor glass φ30x30)
石英晶体微天平监控器:
真空泵单元:
MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统:
最大350℃±10℃(36kw)
 
  

型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统
制造时间:2003年8月
状态:运行极好
生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html)
技术规格:
真空腔体尺寸:
φ1150mmxH 1500mm
衬底圆顶尺寸:
φ950 (3~30rpm)
耐加热系统:
φ20mm 4kw
蒸发源:
2EB Guns (Plasma System) 
G-12100(φ35ccx20)
D-10001 (10kw) 
IAD 系统:
光学厚度监控器:
380~1500nm(波长) (monitor glass φ10x60pcs)
石英晶体微天平监控器:
XTC-2(Inficon)
真空泵单元:
MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统:
300℃±10℃(21kw)
 
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